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NF T51-195-3-1999 塑料.暴露于实验室光源的方法.第3部分:UV荧光灯

作者:标准资料网 时间:2024-05-15 22:09:14  浏览:8168   来源:标准资料网
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【英文标准名称】:Plastics.Methodsofexposuretolaboratorylightsources.Part3:fluorescentUVlamps.
【原文标准名称】:塑料.暴露于实验室光源的方法.第3部分:UV荧光灯
【标准号】:NFT51-195-3-1999
【标准状态】:作废
【国别】:法国
【发布日期】:1999-10-01
【实施或试行日期】:1999-10-05
【发布单位】:法国标准化协会(AFNOR)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:紫外线辐射;荧光的;人工照明;试验设备;塑料;曝光;加速度试验;规范(验收);定义;实验室试验
【英文主题词】:Acceleratedtesting;Artificiallighting;Definition;Definitions;Exposure;Fluorescent;Laboratorytesting;Plastics;Specification(approval);Testequipment;Ultravioletradiation
【摘要】:
【中国标准分类号】:G31
【国际标准分类号】:83_080_01
【页数】:12P;A4
【正文语种】:其他


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基本信息
标准名称:船用柴油机喷油泵桩塞偶件技术条件
英文名称:Techinical specification for plunger mating parts of fuel injection pump of marine diesel engines
中标分类: 船舶 >> 船用主辅机 >> 船用内燃机
ICS分类: 造船和海上建筑物 >> 船舶和海上建筑物综合 >> 船用发动机和推进系统
替代情况:CB 707.3-1983
发布日期:1900-01-01
实施日期:2003-02-01
首发日期:1900-01-01
作废日期:1900-01-01
出版日期:1900-01-01
页数:6页
适用范围

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所属分类: 船舶 船用主辅机 船用内燃机 造船和海上建筑物 船舶和海上建筑物综合 船用发动机和推进系统
【英文标准名称】:Surfacechemicalanalysis-Depthprofiling-Measurementofsputteringrate:mesh-replicamethodusingamechanicalstylusprofilometer
【原文标准名称】:表面化学分析.深度剖面.溅射速率测量:使用机械光针式轮廓仪的网眼复制法
【标准号】:ISO/TR22335-2007
【标准状态】:现行
【国别】:国际
【发布日期】:2007-07-01
【实施或试行日期】:
【发布单位】:国际标准化组织(IX-ISO)
【起草单位】:ISO/TC201
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:螺旋电子光谱法;化学分析和测试;定义;深度测量;深度剖面;精整;定量分析;光谱学;溅射;表面化学;表面;X射线光度法
【英文主题词】:Augerelectronspectroscopy;Chemicalanalysisandtesting;Definition;Definitions;Depthmeasurement;Depthprofile;Finishes;Quantitativeanalysis;Spectroscopy;Sputtering;Surfacechemistry;Surfaces;X-rayspectrometry
【摘要】:ThisTechnicalReportdescribesamethodfordeterminingion-sputteringratesfordepthprofilingmeasurementswithAugerelectronspectroscopy(AES)andX-rayphotoelectronspectroscopy(XPS)wherethespecimenision-sputteredoveraregionwithanareabetween0,4mm2and3,0mm2.ThisTechnicalReportisapplicableonlytoalaterallyhomogeneousbulkorsingle-layeredmaterialwheretheion-sputteringrateisdeterminedfromthesputtereddepth,asmeasuredbyamechanicalstylusprofilometer,andsputteringtime.ThisTechnicalReportprovidesamethodtoconverttheion-sputteringtimescaletosputtereddepthinadepthprofilebyassumingaconstantsputteringvelocity.Thismethodhasnotbeendesignedfor,ortestedusing,ascanningprobemicroscopesystem.Itisnotapplicabletothecasewherethesputteredareaislessthan0,4mm2orwherethesputter-inducedsurfaceroughnessissignificantcomparedwiththesputtereddepthtobemeasured
【中国标准分类号】:A43
【国际标准分类号】:71_040_40
【页数】:24P.;A4
【正文语种】:英语